納米WO3薄膜可以採用濺射鍍膜法製備得到。例如,有專家在未拋光的Al2O3基片上,採用直流反應(yīng)磁控濺射法製備了納米級(jí)三氧化鎢薄膜。專家表示,磁控濺射是常用的濺射鍍膜法。那麼,你們可是知道磁控濺射的原理是?
更多內(nèi)容請?jiān)L問:
http://www.tungsten-powder.com/traditional/tungsten_oxide.html
磁控濺射原理的原理是:利用高能粒子束轟擊靶材表面,使靶材表面的原子擺脫原子間的束縛逸出;採用一定方向一定強(qiáng)度的磁場可控制逸出的原子或二次電子,使其以輪擺線的形式規(guī)則運(yùn)動(dòng);通過將原子或二次電子束縛在靶材表面,可使輝光維持而進(jìn)行濺射。