WO3薄膜可以採(cǎi)用化學(xué)氣相沉積（CVD）法製備得到。專(zhuān)家表示，採(cǎi)用CVD方法可以得到高純度的三氧化鎢薄膜，且能完全控制WO3的形貌。但是，專(zhuān)家還提到，該法成本高，不適用於大規(guī)模製備。
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http://www.tungsten-powder.com/traditional/tungsten_oxide.html
這其中，什麼是化學(xué)氣相沉積？化學(xué)氣相沉積是在反應(yīng)室中使氣體與原料間發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成物經(jīng)過(guò)成核、生長(zhǎng)，最後沉積在襯底上形成薄膜的工藝方法，可分為真空CVD、常壓CVD、低壓CVD、等離子體增強(qiáng)型CVD等。有專(zhuān)家以堇青石蜂窩陶瓷為基體，採(cǎi)用CVD技術(shù)負(fù)載TiO2載體，沉浸於V、W化合物溶液中，最終製備出V2O5－WO3/TiO2催化劑材料。
