MoO3摻雜氧化鎢薄膜可以採用電子束蒸發(fā)法在超高真空電子束鍍膜機中製備得到，具體地，步驟如下：
蒸發(fā)源為摻有MoO3粉末（分析純）2.5%和5%（重量比）的氧化鎢（分析純）粉末，並壓制成直徑8mm的小圓柱?；瑨裼贸练e有ITO導電膜的玻璃，方阻約60Ω。蒸發(fā)前真空度優(yōu)於3×10-3Pa，蒸發(fā)時基片溫度約50℃，蒸發(fā)速率約2.5nm/min。蒸發(fā)所得的樣片再在箱式電爐中進行1h、350℃空氣退火。
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http://www.tungsten-powder.com/traditional/tungsten_oxide.html
此外，專家們還通過變色實驗研究了MoO3摻雜量對氧化鎢薄膜電致變色特性的影響。變色實驗是在兩電極恒電壓電化學槽中進行，電解液為0.05M的H2SO4溶液，對電極用0.3mm厚的鉬片。摻雜氧化鎢薄膜的透射光譜用722型光柵分光光度計測量。薄膜厚度用TP-3型橢偏儀測量，測得膜厚約250nm。
