Ta摻雜氧化鎢電致變色薄膜中，Ta摻雜量的多少會(huì)影響三氧化鎢薄膜光譜調(diào)製能力的好壞。氧化鎢薄膜的光學(xué)調(diào)製幅度ΔT為著色態(tài)與退色態(tài)透射率的差值。
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專家表示，Ta摻雜後氧化鎢薄膜的光學(xué)調(diào)製幅度略有下降，在摻雜量為5%-15%的範(fàn)圍內(nèi)ΔT基本無(wú)變化，與未摻雜的純WO3薄膜的光學(xué)調(diào)製幅度相當(dāng)，均有40%以上。但當(dāng)摻雜量繼續(xù)增大到25%直至30%時(shí)，ΔT下降明顯。由此可知，摻雜需控制在一定範(fàn)圍內(nèi)，過(guò)度摻雜會(huì)影響氧化鎢薄膜的光學(xué)調(diào)製性能。原因可能在於WO3相比Ta2O5具有更加優(yōu)異的電致變色性能，過(guò)量Ta摻雜會(huì)導(dǎo)致Ta摻雜氧化鎢電致變色薄膜中WO3含量的顯著降低，從而對(duì)其光譜調(diào)製能力產(chǎn)生不利影響。
